等離子去膠機是一種環(huán)保的半導體制程前減薄過程中清洗化學機械研磨殘膠的設備，主要應用于集成電路制造業(yè)、光電子工業(yè)及液晶顯示器行業(yè)。等離子去膠機以氣體放電為驅動力，在實驗室里常用非惰性氣體，如純氧、氮和氦。經過電離處理而產生的活性物質，可以將表面染料分解為無毒性分子，去除表面膠片使得后續(xù)工序不會受到殘留雜質污染。
等離子態(tài)(PlasmaState)，是由電子與離子(或大分子)相互作用產生的一種氣體。在等離子體狀態(tài)下，氣體分子中的部分或者全部電子和分子離開了原有結構，形成了大量的離子電子和自由基。等離子體具有很高的反應活性，能夠把氣體分子轉化成帶正/負電荷的粒子，從而改變物質性質，改善表面性能。
在一定壓強和電壓下，通過氣輝放電的方式產生等離子體，并將其直接噴向被處理表面，形成化學反應區(qū)域。等離子體能夠解離化學鍵并且改變分子結構，從而清洗掉表面的涂層粘性雜質污染，去除提示性化學機械研磨殘留殘膜，并且增加表面的活性，提升表面潤濕性和附著力。清洗后表面不會出現(xiàn)新的殘膠或者其他污染物，這使得等離子去膠技術成為典型的原位清洗、處置技術。
等離子去膠機的優(yōu)勢：
1.可去除微米級別的污染.
2.可去除殘留污染表面，在減少手工操作方面有明顯的時間和成本優(yōu)勢.
3.清洗過程不需要使用溶劑溶液，更加環(huán)保，因此不會引起二次污染及消耗大量的資源.
4.可以對多種不同物質進行去膠，具有廣泛適用性.
等離子去膠機在集成電路制造、光電子工業(yè)及液晶顯示器行業(yè)的特殊清潔要求下得到了廣泛的應用。在運作過程中，普遍存在電磁干擾現(xiàn)象，操作時需主意安全，定期維護設備。為確保能夠穩(wěn)定的使用，建議將其放置在防靜電環(huán)境下，并按時檢測機器的電場功率密度變化情況等信息，從而提升機器設備的長期穩(wěn)定性和可靠性。
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